第50回　UV／EB研究会概要　 （聴講記）

　平成２４年６月１日　於 住友クラブ

大阪府立大学大学院　工学研究科　物質・化学系専攻　応用化学分野　准教授　　岡村　晴之

　極端紫外光(EUV)を用いるリソグラフィーは、22 nmノード以降の半導体デバイス製造における超微細加工技術の本命と期待されており、活発に研究が行われている。現在、ArFリソグラフィーで用いられている化学増幅型レジストを改良した、EUVリソグラフィー用レジストが多数報告されている。本講演では、従来の化学増幅型レジストとは異なるコンセプトに基づいた、新しいEUVリソグラフィー用レジストを紹介する。

株式会社トクヤマ　ファインケミカル開発グループ　　東野　誠司

　半導体業界ではITRSの技術ロードマップに従って、光リソグラフィー、およびナノインプリントリソグラフィー等の手法を用いた微細化が進められている。特に近年は10nm以下の微細描画も要求されており、これらの要求を達成できるレジストが望まれている。弊社が保有する電子線用ネガ型レジスト（商品名：TEBN-1）は10nm以下を描画可能なレジストである。講演では本レジストの特徴、および開発経緯について報告する。

　我々は、高効率でアミジン、グアニジン、ホスファゼン塩基のような有機強塩基を発生する新規な光塩基発生剤を初めて開発した。これらの光塩基発生剤を用いることで、これまでは不可能とされていた室温でのアニオンUV硬化が可能になった。当日は、これらの超高感度な光塩基発生剤の特性とアニオンUV硬化材料への応用について述べると同時に、我々が見出した有機強塩基の増殖反応とその利用について紹介する。

　紫外線硬化型コーティング剤はインキ、木工、プラスチックコーティング、エレクトロニクスの分野で非常に多く使用されている。これらの用途はいずれもラインで塗装、コーティングに用いられている。最近アメリカを中心として現場施工型コンクリートコーティングに紫外線硬化性コーティング剤が適用されつつあり、従来とは異なる用途展開が始まっている。本講演ではこの現場施工型紫外線硬化性コーティング剤の特徴、配合処方などをご紹介する。

第49回　UV／EB研究会概要　 （聴講記）

　平成２３年１１月１１日　於 住友クラブ

国立大学法人　九州工業大学　大学院工学研究院　先端機能システム工学研究系　先端機能システム工学部門 　（併任）宇宙環境技術ラボラトリー　衛星帯電・材料試験センター　助教　岩田　稔

　人工衛星に使用される材料は、高真空・熱・ 放射線・紫外線などの、様々な宇宙特有な環境に曝されると共に、地上用途とは異なる特殊な物性評価によって、その耐性を評価する ことが求められます。本講演では宇宙用材料に要求される耐宇宙環境性評価試験の現状と、新規材料の開発についてお話しします。

独立行政法人　日本原子力研究開発機構　量子ビーム応用研究部門　環境・産業応用研究開発ユニット　 環境材料プロセシング研究グループ　木村　敦

　水中環境負荷物質は高い毒性および残留性を有し、 既存の下水処理法では無害化が困難であることから問題となっている。放射線照射法は高い酸化力を有するヒドロキシラジカルを水中に 均一に生成することができるため、環境負荷物質を効率的に分解処理することができる。本講演では、環境負荷物質の一種である環境 ホルモンや医薬品類を含む排水を、放射線照射により分解処理した研究成果や、その実用化への課題についてご紹介する。

　現在のナノ加工では極短波長レーザーを用いた光リソグラフィーなどの手法が用いられているが、光の回折限界のために加工限 界に近づいており、新たなレーザーナノ加工技術の提案が必要とされる。ごく最近、我々は、波長532 nmの可視光レーザーと金ナ ノ粒子を用いて高分子超薄膜上へ直径20 nm程度のナノ加工に成功した。講演では、高強度可視光レーザーと金ナノ粒子の自己組織 化を駆使することにより、大気中下で高分子フィルム上へ微細ナノ加工を効率的かつ高精度に行う技術の基礎的な手法について紹介する。

　ＵＶハードコート剤は、フィルム表面の傷つき防止を目的にディスプレイ関連を中心に使用が拡大してきた。最近の市場は更なる 機能の付与として、高硬度化、帯電防止性、防汚性、屈折率制御などを求めてきている。これらの要請に対する材料面、樹脂設計面 からのアプローチを報告する。

第48回　UV／EB研究会概要　 （聴講記）

　平成２３年９月１６日　於 住友クラブ

大阪大学産業科学研究所　客員准教授　大島　明博

　フッ素系高分子に対して各種量子ビームを酸素不在下で照射することでラジカルを生成させ、そのラジカルを開始点としてグラフト重合 を行うことで、燃料電池用の部分フッ素化電解質膜を合成することができる。本講演では、�@得られた部分フッ素化電解質膜をマイクロ オーダーで微粉化し、アイオノマーとブレンドすることで得られるハイブリッド型電解質膜ならびに、�A量子ビームの媒体中へのエネル ギー付与のシミュレーションモデルから設計して合成したナノ空間制御型電解質膜について報告する。

日本原子力研究開発機構　量子ビーム応用研究部門　環境・産業応用量子ビーム技術研究ユニット　 高性能高分子材料研究グループ　前川　康成

　置型燃料電池や燃料電池自動車への適用を目的に、量子ビームの合成機能（電子・γ線グラフト重合）と解析機能（中性子・X線小角散乱 等）を駆使した、高耐久性グラフト型電解質膜の研究・開発について報告する。また、グラフト型電解質膜の新たな分解挙動を利用する ことで、これまで解析例のないフッ素系電解質膜に結合したグラフト鎖構造やそのグラフト重合機構の解析が可能となってきたので合わ せて紹介する。

　リチウムイオン二次電池は、高エネルギー密度・高出力の高性能二次電池として期待され電気自動車用や携帯エレクトロニクス 機器の大型、小型電源として研究開発が行われているが、発火事故に見られる様に、リチウムイオン二次電池の安全性の確保が重 要な課題となっている。安全性を高めるため有機電解液への難燃性化合物の添加、難燃性有機溶媒やイオン液体の使用、高分子（ ポリマー）固体電解質や無機固体電解質の適用などがあるが、高分子固体電解質は、柔軟性、弾性、加工性に優れ、電池の薄膜化、 形状自由化の利点を有しており注目されている。本講演では、高分子固体電解質の解説、高イオン伝導化に関する研究動向、及び それらのポリマーリチウム二次電池への応用について、私たちの研究開発も含めて紹介する。

第47回　UV／EB研究会概要　 （聴講記）

　平成２３年６月３日　於 住友クラブ

イービーシステム　コンサルタント事務所　幕内　恵三（会員ページ）

　 旧著「ポリマーの放射線加工」（2000年刊）の改訂のため、放射線加工（架橋、グラフト重合、分解）の現状を見直し、 非放射線法との競争力を検討した。今後の発展が期待できる放射線架橋として、温水パイプ及びスーパーエンプラを解説する。 グラフト重合ではUV及びプラズマ法との、多糖類の放射線分解及び水溶性ポリマーの放射線架橋によるハイドロゲルでは、 化学法との厳しい競合についても紹介する。

福井大学大学院　工学研究科　ファイバーアメニティ工学専攻　准教授　久田　研次

　環境問題などが深刻化するのに伴い、天然物由来の 活性化体積が負である重合反応を高圧下で行うと、重合速度が増加し高分子量のポリマーが得られることが報告されている。 電子線照射した繊維について、100 MPa以上の高圧下でグラフト重合を行うと、グラフト率が顕著に向上することを明らかにした。 この高圧電子線グラフト重合で表面加工した繊維の吸着特性について紹介する。

　ゴムは現代の産業に不可欠な材料であるが、その柔軟性ゆえに摩擦・摩耗など表面に関わるトラブルが生じやすく、しばしば 表面改質が要求される。従来の表面改質はハロゲンによる化学処理やコーティングが多いが、処理効率や廃液、耐久性などの 問題がある。我々は高エネルギープロセスである電子線照射グラフト重合に着目し、ゴムの表面改質への応用を検討してきた。 本講演では、その検討結果と具体的な応用について紹介する。

第46回　UV／EB研究会概要　 （聴講記）

　平成２２年１２月３日　於 住友クラブ

京都工芸繊維大学　大学院工芸科学研究科　バイオベースマテリアル学部門　安永　秀計

　 染色された繊維製品などは、光線、特に紫外線の照射によって、その色が変褪色していく。したがって、これまでは染色物にとっては紫外線は 有害な作用を及ぼすものとして捉えられてきた。一方、本研究では、バイオベースマテリアル（天然由来物質）を色素原料とし、可視光線より も高いエネルギーをもち、さまざまな作用をもたらす紫外線を積極的 に利用して、繊維を染色する方法を検討した。

独立行政法人　日本原子力研究開発機構　量子ビーム応用研究部門　環境・産業応用研究開発ユニット　 環境材料プロセシンググループ　長澤　尚胤

　環境問題などが深刻化するのに伴い、天然物由来の 高分子材料への利用が大きな注目を集めている。セルロース、デンプンに代表される多糖類やそれらの誘導体、デンプン由来のポリ乳酸は、 放射線照射により分解する材料であったが、特殊条件下で照射を行うことで橋かけ構造を導入することができる。本講演では、放射線橋か けによる生分解性ハイドロゲルの創製やポリ乳酸の耐熱性改質とその応用について、実例を挙げて紹介する。

　今年、10月にワシントンで行われた放射線プロセスの国際会議であるIRaP 2010、 10、11月に行われたリソグラフィ関連の国際会議 であるEUV Symposium, MNC 2010、International EUV Resist Symposiumの４つの国際会議の報告をおこなった後に、長い研究開発の 年月を経て、いよいよ実用化が直前に迫ってきたEUVリソグラフィとレジストの現状について報告する。