第70回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成30年11月16日 於 住友クラブ
1． 量子ビーム誘起グラフト反応を用いた材料の開発
～高分子アクチュエータへの応用(50分)（会員ページ）
大阪大学大学院 工学研究科 大島 明博
フッ素系高分子は、高電気絶縁性、耐薬品性、防汚性に優れ、電気絶縁材料をはじめ、摺動材、人工臓器の各種部材等、広範囲にわたって使用されている優れた材料であるが、利用用途への期待とは反対に、優れた特性故に加工や改質処理が難しく、性能の割に産業用途への展開が不十分な材料であった。
本講演では、量子ビーム誘起グラフト反応を用いた材料開発を中心に、高分子アクチュエータへの応用について、例を挙げて紹介する。
2．電子線照射装置の工業利用と利用拡大(50分)（会員ページ）
株式会社NHVコーポレーション 加速器事業部 森本 雅史
電子線照射の工業利用は50年以上に渡る歴史があり、タイヤ・電線業界やキュアリング分野など幅広く利用されている。また殺菌分野や炭素繊維の製造工程で利用されるなど、様々な分野で広がりを見せている。
本講演ではEPS(Electron beam Processing System)について、照射技術の概要、工業利用の現状、新規利用分野について紹介する。
3．事業としての電子照射センター(50分) （会員ページ）
元日本電子照射サービス（現住重アテックス） 桂 一郎
電子線照射による電子照射センターについては色々な機会に何度か紹介されていることもあったと思われるが、事業として具体的にどんな物になるのかは発表されていないようである。
そこでこの度は電子照射センターの概要を紹介するとともに、設置条件、設立費用、運営コストやその回収などの事業運営の面に重点を置いた講演を行う。
4．UV硬化におけるin-situ評価技術(50分)（会員ページ）
株式会社アクロエッジ 中宗 憲一
UV硬化樹脂に代表される光硬化樹脂は、デジタルカメラ、スマートフォン、高機能フィルムなど量産製品にとって今や不可欠な樹脂となっている。特に製品のグローバル化に伴い中国、アセアンを生産国とするEMS（electronics manufacturing service）にて多量に使用され、完成品が世界中で使用されるようになっている。
また電子機器製品の寿命サイクルもどんどん短くなり、今や3年でその寿命を終えてしまう電子機器が70％に達している。短期間で莫大な生産量を確保し、その製品品質を担保するためには、生産管理の中にトレーサビリティーを組み込む必要があり、㈱アクロエッジ製のCurea（UV硬化レベルを判定するセンサー）は必要不可欠なセンサーとなる。今回は、市場のどういう分野で、どういう使われ方をしているかについて説明する。
第69回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成29年9月28日 於 住友クラブ
1．UVLED照射による硬化反応の高効率化(50分)（会員ページ）
へレウス株式会社 ノーブルライト事業部 足利 一男
UVLEDが、次世代産業用用途のUV照射光源として脚光を浴びている。ただ、現在市場にある多くのUV硬化型樹脂組成物は、水銀ベースのUVランプを対象として設計配合されており、それらの吸収スペクトルとUVLEDの発光スペクトルとのマッチングはあまり良くない。
本講演では、UVLED照射による硬化プロセスを検討することにより得られた、既存開始剤を用いたUV硬化型樹脂組成物の硬化反応の高効率化への取り組みの結果を紹介する。
2．真空紫外光を用いた高分子材料の直接接合(50分) （会員ページ）
ウシオ電機株式会社 技術統括本部開発部 光学計測グループ 山田 剛
大気圧雰囲気下でXeエキシマ光を照射して材料表面を活性化し、これらの表面同士を密着させることにより、 シリコーン、ガラス、各種光学樹脂等の直接接合が可能である。
本講演では主にPDMSの接合を例に取り、接合プロセスとメカニズムについて紹介する。
2． ニュースバル放射光施設における
EUVリソグラフィー用マスク検査技術の開発(50分) （会員ページ）
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
EUVリソグラフィー研究開発センター 原田 哲男
半導体回路描画（リソグラフィー）技術として、波長13.5 nmの極端紫外線（EUV）を利用したEUVリソグラフィー技術の開発が進み、量産一歩手前の状況にある。
半導体回路の原板であるフォトマスクは、EUVによる検査が必要となるため、ニュースバル放射光施設ではEUVマスク観察顕微鏡を開発してきた。本講演ではコヒーレントEUVを利用した、結像光学系不要の顕微鏡を中心に紹介する。
4．PHITSの概要と地球惑星科学への応用(50分)（会員ページ）
日本原子力研究開発機構 原子力基礎工学研究センター
放射線挙動解析研究グループ 佐藤 達彦
原子力機構が中心となって開発している放射線輸送モンテカルロ計算コードPHITSは，任意の物質中における様々な放射線の挙動を模擬できるため，現在，国内外で3,000名以上の研究者や技術者に利用されている。
その主な使用目的は，放射線施設設計，検出器設計，医学物理・放射線防護計算，宇宙線研究などである。本講演では，PHITSの概要を説明するともに，PHITSを宇宙線挙動解析や地球惑星科学分野に応用した例を紹介する。
第68回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成30年6月15日 於 住友クラブ
1．日本のUVEB技術と市場の概観(50分)（会員ページ）
ＪＳＲ株式会社 四日市研究センター長 小宮 全
（一社）ラドテック研究会の協力により、日本におけるUVEB技術の市場に対する期待を企業側とアカデミア側の両面から解析した。
その結果、期待と技術シーズは一致しているところが多く見られ、企業とアカデミアの協力により、新たなUVEB技術と市場が切り拓かれていくと期待できる（本発表は2016年10月に開催されたRadtech Asia 2016で、ラドテック研究会から発表された内容を再掲するものである）。
2．紫外線を用いた水処理技術の現況と今後の展望(50分)（会員ページ）
立命館大学 理工学部 環境システム工学科 教授 神子 直之
無薬注で水質変化が少ない紫外線照射が上水道に導入されるようになって11年が経過した。
一方でUVLEDの高出力化等、関連分野の技術開発が活況を呈している。
そこで本講演では、紫外線水処理の基礎、上水道への導入の経緯、紫外線消毒装置の実際、UVLED等新規光源の適用をはじめとする今後の展望等について紹介、解説を行う。
3．周波数スペクトルバンド画像を用いた紙幣真偽識別(50分)（会員ページ）
大阪工業大学 ロボティクス＆デザイン工学部 客員教授 大松 繁
紙幣の真偽識別を高精度で行う技術は社会の安全・安心のために重要である。
通常は絵柄や色合いの差異やインクの磁気特性などで偽造札の検出を行っているが、これら方法を潜り抜ける偽造札が現れている。
本研究は、紫外領域～熱赤外領域に渡るスペクトルバンド画像を10nm毎に計測し、真券が有するスペクトルバンド画像と比較することで紙幣の真偽識別を行う手法について述べる。
4．深紫外LEDを用いたアクリルおよびエポキシ光硬化樹脂の作製(50分)（会員ページ）
大阪府立大学大学院工学研究科 物質・化学系専攻 応用化学分野
准教授 岡村 晴之
深紫外LEDを用いたアクリルおよびエポキシ光硬化樹脂の作製を行った。シリコン板上に光開始剤を含むアクリルおよびエポキシ光硬化樹脂の塗膜を作製し、265 nm光、 285 nm光、もしくは300 nm光を放射するLEDランプを用いて光硬化を行った。
波長、光開始剤の種類、膜厚、雰囲気の影響について検討した。
ラジカル光硬化系によるアクリルの光硬化では酸素阻害を軽減できること、また、カチオン光硬化系によるエポキシの光硬化では100μｍ以下の薄膜作成において有用であることが分かった。
第67回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成29年11月10日 於 住友クラブ
１. 大気圧プラズマの応用技術と殺菌処理(５０分)（会員ページ）
近畿大学 理工学部 武村祐一朗
大気圧プラズマは、真空装置が不要であるためコストが低く、装置を小型にしやすいといった特徴があり、様々な応用がなされている。応用技術としては表面処理、表面加工、有害物質分解、新物質創造、プラズマ治療、殺菌処理など幅広い分野で行われている。本公演では大気圧プラズマに関する基礎的な解説とその応用技術について解説する。
２．Cryo-TEMと大気圧走査電顕(ASEM)による親水環境での観察：タンパク質・細胞・組織を中心として（５０分）（会員ページ）
産総研 バイオメディカル研究部門 構造生理研究室 佐藤 主税
タンパク質分子と細胞を自然な親水環境で直接観察するために、クライオ透過電顕 (Cryo-TEM)による単粒子構造決定法と、水中が見える走査電子顕微鏡法(ASEM)とを開発し研究を進めている。単粒子解析法によりイオンチャネル・受容体・細胞骨格・酸化ストレスセンサー等のタンパク質の構造を研究し、現在これらタンパク質のさらなる複合体の３次元構造を研究している。さらに、これら複合体の離合集散を細胞・組織レベルで観察するため、電子線透過SiN薄膜越しに水中の細胞を観察するASEMを開発した。8nm分解能で水中で細胞・組織を観察した結果を紹介する。
３．量子ビーム技術による高分子材料の微細加工研究（５０分）（会員ページ）
国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構 大山 智子
量子ビーム（高精度に制御された放射線・光）は、高分子材料の精密な微細加工技術や改質・機能化技術に広く活用されている。本講演では、半導体製造ラインに近く導入される極端紫外線(EUV)リソグラフィと、再生医療・創薬・診断等の幅広い分野で需要が高まる機能性バイオデバイス開発という、量子ビーム微細加工技術の２つの先端応用研究について紹介する。
４．実用化直前のEUVリソグラフィの展望：EUV リソグラフィと放射線化学(５０分)（会員ページ）
大阪大学産業科学研究所 田川 精一
AI、IoT、ビッグデータ活用等の半導体利用分野の急速な進展と拡大が期待され、これらを支える半導体の性能と製造プロセスの高度化、特に、半導体製造の中核技術で、製造コストの最も大きな割合を占めるリソグラフィの高度化、特にEUVリソグラフィの早期の実用化が強く求められてきた。新聞報道等で、電離放射線を用いた初めての半導体量産プロセスとなる EUVリソグラフィが2018年から開始される。放射線利用の中で突出して巨大な経済規模を持ち、最先端の放射線技術の塊である EUVリソグラフィの最近の急進展と実用化直前の状況、 EUV リソグラフィ以前の放射線を用いたリソグラフィである電子線・ X 線リソグラフィも含め、リソグラフィと放射線化学の深いかかわりと今後の進展について、PSCARプロセスも含め展望する。
第66回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成29年9月01日 於 住友クラブ
１．フェムト秒・アト秒電子ビームによる超高速反応の探索（会員ページ）
大阪大学 産業科学研究所 吉田 陽一
加速器技術の発達により、現在では電子ビームのパルス幅はフェムト秒（1000兆分の1秒）に到達しており、それを活用した超短時間現象や反応の解明が行われている。最近になって、フェムト秒の1000分の１であるアト秒が、スコープに入って来た。そこで、アト秒電子ビーム発生方法や、その応用の将来展望について紹介する。
２．酸・塩基触媒反応を利用した高感度フォトポリマーの創製（会員ページ）
東京理科大学 理工学部
先端化学科 有光 晃二
光酸発生反応と酸触媒反応、あるいは光塩基発生反応と塩基触媒反応を組み合わせることで様々な光反応性材料が調製される。このような酸・塩基触媒反応を利用した光反応性材料に連鎖的な酸・塩基分子の発生反応を組込むと超高感度化が可能である。ここでは、新規な光塩基発生剤の開発を含む高感度なUV硬化材料およびフォトレジスト材料の開発に関する筆者らの最近の研究例について述べる。
３．陽電子消滅法による微小空隙評価技術（会員ページ）
産業技術総合研究所 計量標準総合センター 分析計測標準研究部門 大島 永康
原子空孔や分子間空隙は、材料特性に影響するため、先端機能性材料の開発では、精確な評価が重要である。電子の反粒子である陽電子をプローブとして、微小空隙を高感度かつ非破壊で解析できる。最近の陽電子ビーム制御技術の進化等で、表面・界面・薄膜・微小領域など局所構造の解析、及び、その場測定等のダイナミクス評価など、新たな研究展開が進んでいる。講演では、陽電子消滅法の原理および計測技術を紹介する。
4．電離放射線の生物影響の原因は何か？（会員ページ）
量子科学技術研究開発機構 関西光科学研究所 量子生命科学研究部 鹿園 直哉
電離放射線は致死や突然変異誘発、発がん等といった様々な作用を及ぼすことが知られている。電離放射線の生物影響の原因として、複数個のDNA損傷が近接して存在する「クラスターDNA損傷」が提唱されてきた。近年新しい実験手法の開発に伴い理解が進んでいる。本講演では、クラスターDNA損傷の概念が生まれた研究背景を概観しつつ、我々のグループを含めたクラスターDNA損傷研究の現状を紹介する。
第65回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成29年6月09日 於 サンエイビル
１．太陽紫外線による老人性白内障の進行とその発症機構の解明（会員ページ）
京都大学 原子炉実験所 高田 匠
白内障は老化の進行や紫外線照射により眼の水晶体が濁り、視力を失う疾患で、80歳以上の老人では誰もが発症する。
従来、その発症原因は不明であったが、我々は水晶体の透明性を維持している蛋白質中のアミノ酸が老化という長い年月を経て化学的に変化することが主因であることを明らかにしてきた。
本講演では、この蛋白質構成アミノ酸の化学変化を蛋白質損傷のマーカーとして、白内障に至る過程を易しく解説する。
２．光硬化技術を用いた機能性ハイブリッド薄膜の創成（会員ページ）
京都工芸繊維大学 分子化学系 松川 公洋
有機無機ハイブリッド材料は、有機と無機の物性トレードオフを解消し、より高い機能性を実現できる材料として注目されている。
ハイブリッド界面での架橋反応に、光硬化技術を用いることで、材料設計及び合成が容易になる。本講演では、ナノ粒子やシルセスキオキサンをナノ分散した高屈折率材料の開発を中心に、我々の研究成果を紹介する。
３．相対論的フェムト秒電子線パルスによる超高速電子線回折と電子顕微鏡の開発（会員ページ）
大阪大学 産業科学研究所 楊 金峰
超高速の物質構造変化ダイナミクスや構造相転移現象の観察は、新しい物質の創製・機能の発見に非常に重要である。 我々は、フェムト秒短パルスレーザーが駆動するフォトカソード高周波（RF）電子銃を用いて相対論的エネルギーのフェムト秒電子線パルスを発生し、時間分解構造解析法を通して電子線結晶学の新展開を推進している。
本講演会では、フェムト秒電子線パルスの発生および超高速電子線回折と電子顕微鏡装置の開発現状について紹介する。
4．RaysからRayへ：単数として扱う放射線の物理と化学（会員ページ）
京都大学 大学院工学研究科 分子工学専攻 関 修平
1920年、高分子の概念が成立するころとほぼ時を同じくして、電離放射線と高分子の相互作用に基づく研究が始まった。当時、おそらく最強の物理化学ツールでもあった電離放射線は、有機材料中の化学反応誘起源としても極めて有効であり、特にその空間均一性や定量性に基づく基礎研究が爆発的に拡大した。今一度、この「空間均一性」の原点まで戻って、展開できる新しい研究、粒子放射線化学反応の材料形成ツールとしての面白さについて紹介する。
第64回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成28年11月18日 於 住友クラブ
１．光を利用する易解体性接着材料（会員ページ）
大阪市立大学大学院
工学研究科化学生物系専攻 准教授 佐藤 絵理子
接着強度は、接着剤として用いるポリマーのバルクの性質およびポリマーと被着体との相互作用によって決まるため、一度接着した後再び接着強度を低下させるには、これらを外部刺激によって変化させる必要がある。
本講演では、光に応答する易解体性接着材料の開発について、高分子反応と解体挙動の関係、およびモルフォロジーが解体挙動に与える影響を中心に紹介する。
２．原子燃料工業(株)電子線照射施設の紹介（会員ページ）
原子燃料工業（株）照射サービス事業部 副部長 景平 克志
原子燃料工業(株)が1999年に、滅菌、材料改質等に利用可能な電子線照射施設の操業を開始して、17年を経過した。電子加速器として採用したIBA社製ロードトロンは、高エネルギー・大出力であり、独自開発したトレイ方式の製品搬送設備と組み合わせることにより、小ロットから大ロットまでの製品を短時間に処理することが可能である。
本講演では、照射設備の保守管理と最近の活動状況について紹介する。
３．放射線を活用したワイドバンドギャップ半導体の欠陥エンジニアリング（会員ページ）
量子科学技術研究開発機構 量子ビーム科学研究部門 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部プロジェクトリーダー・上席研究員 大島 武
半導体中の単一光子源と呼ばれる発光中心（結晶欠陥）は量子コンピュータ、量子暗号通信や量子センシングといった次世代技術への応用が期待されている。
特に、ワイドバンドギャップ半導体中には室温でも単一光子源として振舞う発光中心が存在することから、世界的に活発な研究が行われている。
講演では、ワイドバンドギャップ半導体の一つである炭化ケイ素に着目し、単一光子源の形成技術及び形成した単一光子源の物性を紹介する。
4．UV/EBグローバルマーケットの動向（会員ページ）
（一社）ラドテック研究会 会長 折笠 輝雄
グローバリゼーション時代に突入し、30年以上の時間が経過し、目覚ましい技術発展を遂げた現在は、ユビキタス社会へと変貌を遂げている。
その一方では、経済成長は成熟期に入り、閉塞感の蔓延も叫ばれている。この閉塞感の打破には新たなイノベーションという難題が突き付けられている。
本稿ではグローバルなマーケットにおけるUV/EB関連技術の現状と今後の取り組みついて、ラドテック・アジア国際会議における発表を基に解説する。
第63回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成28年9月09日 於 住友クラブ
１．紫外線励起加工の研究－化学状態の分析、研磨現象の検証と研磨技術の確立－（会員ページ）
立命館大学 総合科学技術研究機構 上席研究員 田中 武樹
紫外線励起加工とは、紫外線を照射された光触媒と蛍光材料を用い、電子と正孔の移行を、積極的に利用して加工を行う、新しい概念の表面加工法である。XPS、XAFS、ICPSなどにより、化学状態を分析・同定し，加工表面で起こる化学反応を推定する。研磨原理と研磨現象を化学状態の分析から推考する。実用化技術として確立するため、金属、合金、次世代半導体などに対し、紫外線励起加工を行った結果を報告する。
２．医療/ライフサイエンスにおけるUV/IB技術の活用（会員ページ）
富山大学 名誉教授 北野 博巳
生体適合性高分子による表面修飾と光パターニングを併用すれば、細胞の機能や細胞間相互作用の解析ツール、薬剤のスクリーニング細胞アレイ等様々な機能材料の創出につながる。本講演では、糖鎖担持高分子や、双性イオン型高分子により修飾された表面の、UV / IB照射による改質とタンパク質や細胞などの生体物質のパターニングについて紹介する。
３．光硬化性フルオレンモノマー（会員ページ）
大阪ガスケミカル(株) ファイン材料事業部 研究開発部 副部長 宮内 信輔
フルオレンはその強直なカルド構造ゆえに、高屈折率、高耐熱性とともに、低複屈折や耐熱黄変性を併せ持ち、スマートフォンやディスプレイ材料のレンズ材料として使用されている。本講座では、フルオレンを構造中に含む光硬化性モノマー「オグソール」の特徴とともに、柔軟性やハードコート性等を付与した開発事例を紹介する。
4．電子線レジスト（会員ページ）
大阪大学産業科学研究所 教授 古澤 孝弘
集束性の高い電子線は、超微細加工を可能にするツールとして、半導体リソグラフィ用のマスク製造をはじめ、ナノテクノロジーにおいて必須の放射線である。本講演では、最近の電子線レジストの現状と開発状況、将来展望について、レジストの反応機構から現像プロセスまでの基礎を含め解説する。
第62回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成28年6月03日 於 住友クラブ
１．放射線を利用した高分子前駆体からのセラミック材料創製（会員ページ）
量子科学技術研究開発機構 量子ビーム科学研究部門 研究企画室 主幹研究員 杉本 雅樹
SiCセラミック繊維は、ケイ素高分子繊維の架橋・焼成の工程により製造される。量研機構では、この架橋に電子線照射技術を応用し、セラミック複合材への応用にも耐えうる耐熱性を実現してきた。本講演ではこのSiC繊維の作製技術について紹介し、その技術を元に開発してきたSiCマクロチューブや、イオンビームを用いたSiCナノファイバー等の作製技術を中心に解説する。
２．放射線とサンルックス、そして放射線教育の教材開発へ（会員ページ）
（株）サンルックス 代表取締役社長 長谷 仁、 新商品開発・営業部参与 来田文夫
1978年創業以来、視力補正用プラスチックレンズ製造一筋に、100%メイドインジャパン、世界最高品質のレンズを1億枚以上生産している。この技術を生かし、新しいプラスチックレンズの研究から日本原子力研究開発機構との共同研究で放射線着色の特許を取得、その後α線観測プラ板SUN9、生分解性放射線実験樹脂などの学校教育教材を開発・発売している。これまでのサンルックスと放射線の関りについて紹介する。
３．最近の電子線照射装置(EPS)利用分野の動向と装置の特徴（会員ページ）
(株)NHVコーポレーション 加速器事業部 中西 良太
弊社は５０年以上にわたり、低エネルギーから高エネルギーの電子線照射装置（EPS）を製造・販売してきた。これまでにタイヤ・電線業界やキュアリング分野など、４００台以上のEPSを日本及び世界各国に納入し、幅広くご利用いただいている。また殺菌分野や炭素繊維の製造工程で利用されるなど、様々な分野で広がりを見せている。本講演では最近のEPS利用分野の動向と装置の特徴を紹介する。
4．自由界面からの液晶高分子膜の光配向制御（会員ページ）
名古屋大学大学院工学研究科 教授 関 隆広
基板表面上の光反応を介して液晶物質が配向する光配向現象は30年近く前に見出され、ここ数年で高精細な液晶ディスプレイパネルの製造過程に導入されるなど、その重要性は増している。当グループでは、液晶高分子膜においては、固体基板上ではなく空気側の表面（自由界面）の配向作用が強く、自由界面からの光配向制御も可能であることを最近見出した。自由界面からの液晶物質を配向させるアプローチの背景、特徴、展望などを紹介する。
第61回 UV／EB研究会概要（聴講記）
平成27年11月06日 於 住友クラブ
１．天然高分子を基材に用いた放射線グラフト吸着材の開発（会員ページ）
日本原子力研究開発機構
環境資源材料研究グループ 保科 宏行
水中に溶存する金属を除去・回収する手法の一つとして、吸着材を用いた吸着法が知られている。
原子力機構では、放射線グラフト重合技術を活用して、水中に溶存する金属を効率的に吸着する事が可能な繊維状金属吸着材の開発を進めてきた。
本講演では、天然高分子を基材に用いたヒ素吸着材の合成方法及びヒ素に対する吸着性能を評価した結果などについて紹介する。
はじめに（抄）
これまでに開発してきたグラフト吸着材の多くは、ポリエチレンやポリプロピレンなどの石油由来の高分子素材を基材に適応してきたが、最近では環境を意識して、セルロースなどの天然高分子材料を基材に用いる吸着材の開発を進めてきた。
本発表では、植物由来の天然高分子材料であるセルロース繊維で作製した不織布を基材に用いた、放射線グラフト重合によるヒ素吸着材の合成方法及びヒ素に対する吸着性能を評価した結果などについて紹介する。
２．アゾベンゼン系分子材料が示すフォトメカニカル挙動（会員ページ）
室蘭工業大学 くらし環境系領域
物質化学ユニット 教授 中野 英之
最近、光（紫外線）照射に伴ってメカニカルな動作がひきおこされるフォトメカニカル効果を示す材料が注目を集めている。
われわれは、アゾベンゼン系分子材料を対象として、光誘起物質移動が関連するさまざまなフォトメカニカル効果を見出し、そのメカニズムの解明について検討を進めるとともに、さまざまな応用展開を模索している。
本講演では、これらの最新の成果を含めて詳しく紹介する。
おわりに、まとめ、今後の展望等
著者らはアゾベンゼン系フォトクロミックアモルファス分子材料を用いて さまざまなフォトメカニカル挙動を見出し、その機構解明をめざして検討を進めてきた。
現 時点で、「なぜ、分子は偏光方向と平行に移動しようとするのか」は未解決のままである が、偏光の照射方法を工夫することで、かなり自由に物質を動かすことができるように感じている。
今後、機構解明をさらにすすめていくとともに、さまざまな光駆動微小機械への応用展開を図っていきたいと考えている。
３．低エネルギーＥＢ装置の動向（ＵＶとの比較、ＥＢ基礎と応用含む)（会員ページ）
(株)アイ・エレクトロンビーム 代表取締役社長 木下 忍
低エネルギーＥＢ装置が登場して４０年強経過している。
その間、低エネルギーＥＢ装置は、小型化、低価格化などの進化を遂げ、用途に合わせた装置提供が出来る環境になってきている。
また、ＥＢ照射センター等の環境も整ってきている。しかし、現状、ＥＢ技術を有効に活用されている事例は未だ少ないように感じる。
そこで、ＥＢ装置の動向とＥＢとＵＶとの技術比較を行い、ＥＢ技術の特徴も紹介する。更に、近年、ＰＥＴボトルの滅菌に利用され実稼動している。そのシステムについても紹介する。
おわりに
EB装置も小型化され、その特長を活かした応用展開が進められている事を紹介した。
未だ、EB技術を有効に活用しているところは少ないといっていいのではないだろうか？
EB技術に興味を持たれた方は是非検討してほしい。
EB照射は、ラボ機でのトレー搬送の1回の照射時間は1分程度で、タッチパネルにタッチするのみで完了する。
また、材料からみても、硬化では光重合開始剤の選択も不要であり、機能性付与の添加剤（無機物を含め）の添加も容易である。
さらに、高分子材料をガラス転移点以 下の温度で改質するなど要求する特性を出すにも有効な技術と考える。
ユーザー、材料メーカー、装置メーカー（筆者も含め読者の方々）がー体となり、本EB技術の特長を活かした実用化が更に進められていく事を期待する。