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第１部 講演会 13:30～17:15 |
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1．UVLED照射による硬化反応の高効率化(50分) |
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へレウス株式会社 ノーブルライト事業部 足利 一男
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UVLEDが、次世代産業用用途のUV照射光源として脚光を浴びている。ただ、現在市場にある多くのUV硬化型樹脂組成物は、水銀ベースのUVランプを対象として設計配合されており、それらの吸収スペクトルとUVLEDの発光スペクトルとのマッチングはあまり良くない。本講演では、UVLED照射による硬化プロセスを検討することにより得られた、既存開始剤を用いたUV硬化型樹脂組成物の硬化反応の高効率化への取り組みの結果を紹介する。
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2．真空紫外光を用いた高分子材料の直接接合(50分) |
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ウシオ電機株式会社 技術統括本部開発部 光学計測グループ 山田 剛 |
| 大気圧雰囲気下でXeエキシマ光を照射して材料表面を活性化し、これらの表面同士を密着させることにより、 シリコーン、ガラス、各種光学樹脂等の直接接合が可能である。本講演では主にPDMSの接合を例に取り、接合プロセスとメカニズムについて紹介する。
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3．ニュースバル放射光施設におけるEUVリソグラフィー用マスク検査技術の開発(50分) |
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兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 EUVリソグラフィー研究開発センター 原田 哲男
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半導体回路描画（リソグラフィー）技術として、波長13.5 nmの極端紫外線（EUV）を利用したEUVリソグラフィー技術の開発が進み、量産一歩手前の状況にある。半導体回路の原板であるフォトマスクは、EUVによる検査が必要となるため、ニュースバル放射光施設ではEUVマスク観察顕微鏡を開発してきた。本講演ではコヒーレントEUVを利用した、結像光学系不要の顕微鏡を中心に紹介する。
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4．PHITSの概要と地球惑星科学への応用(50分) |
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日本原子力研究開発機構 原子力基礎工学研究センター 放射線挙動解析研究グループ 佐藤 達彦
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| 原子力機構が中心となって開発している放射線輸送モンテカルロ計算コードPHITSは，任意の物質中における様々な放射線の挙動を模擬できるため，現在，国内外で3,000名以上の研究者や技術者に利用されている。その主な使用目的は，放射線施設設計，検出器設計，医学物理・放射線防護計算，宇宙線研究などである。
本講演では，PHITSの概要を説明するともに，PHITSを宇宙線挙動解析や地球惑星科学分野に応用した例を紹介する。
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第2部 技術交流会 17：30～19:00 |
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