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第１部 講演会 １３：３０～ |
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１．放射線橋かけ技術を活用したポリマーゲル線量計材料の開発 (５０分) |
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日本原子力研究開発機構 原子力科学研究部門 量子ビーム応用研究センター 廣木 章博
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ポリマーゲル線量計は、放射線治療における線量分布評価のための新しいツールとして注目を集めている。原子力機構では、放射線橋かけした多糖類ゲルと低毒性モノマーから成る新規ポリマーゲル線量計材料の開発を進めてきた。本講演では、新規ポリマーゲル線量計の作製方法やその線量応答性について報告するとともに、実用化に向けた取り組みについて紹介する。
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２．放射線はどのように高分子を壊すのか？
－フェムト秒パルスラジオリシスを用いた高分子モデル化合物の放射線分解の解明－
(５０分) |
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大阪大学産業科学研究所 ナノ極限ファブリケーション研究分野 助教 近藤 孝文 |
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次世代EUVリソグラフィーでは、微細化のために光源が短波長化され、レジストのイオン化を引き起こす。イオン間距離が加工精度に影響するので、放射線化学が重要となる。高分子レジストの潜像形成の1方法である高分子主鎖切断は、アルキルラジカル生成を経る。フェムト秒パルスラジオリシスにより、モデル化合物のアルキルラジカルの観測により、起点となる短寿命活性種を示唆した。分解かつ架橋点生成の起点となる短寿命活性種の理解が、本質的に重要である。
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３．高精度スクリーン印刷用フォトレジスト材料(５０分） |
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大阪府立大学大学院 工学研究科 物質・化学系専攻 応用化学分野 准教授 岡村 晴之
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近年、電子機器や通信機器の小型化・高集積化に伴い、電子部品や配線の微小化が必要とされている。微細回路形成の手法として、スクリーン印刷法は量産性、コスト、環境負荷の点で他法より有利である。しかし、従来のネガ型感光乳剤を使用した場合、線幅30μm以下のスクリーン版の製造は困難であった。本講演では、従来のネガ型感光乳剤とは全く異なる、新規なポジ型高精度スクリーン印刷用フォトレジスト材料を紹介する。
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４．ニュースバルに於けるEUVレジストの開発(５０分） |
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兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 EUVリソグラフィ研究開発センター
教授 渡邊 健夫
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極端紫外線リソグラフィ（EUVL）技術は、7 nm世代から半導体の量産技術として用いられる。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所では、ニュースバル放射光施設を中心に、EUVレジストとマスクの開発を進めてきた。この中で兵庫県立大学ではEUVレジスト開発は1996年より進めてきた。今回はEUVレジスト開発にテーマを絞り、sub-10nmのEUVレジスト評価用EUV干渉露光系の開発、アウトガス評価系、軟Ｘ線吸収分光を用いたEUVレジストの反応解析等について紹介する。
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第２部 技術交流会 17：30～ |
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