第60回 UV/EB研究会 

主    催:

(一社)大阪ニュークリアサイエンス協会
平成27年9月18日(金)  13:30〜19:00
場    所: 住友クラブ
大阪市西区江戸堀1-13-10  Tel:06-6443-1986 
 地下鉄四つ橋線肥後橋駅下車 A出口よりすぐ【アクセス地図】
参加費: 第1部 講演会 6,000円
 協会会員及びUV/EB会員 3,000円
 大学・公設研究機関 2,000円
 放射線科学研究会会員、学生、一般市民 無料
第2部 技術交流会 3,500円
  ◎参加を希望される方は、 参加申込みフォームからお申込み下さい。受付の返信が無い場合は、お手数ですがTEL/FAX等 でご確認下さい。

 

【講演の内容】 


第1部 講演会  13:30〜
1.超高分子量ポリエチレン繊維の表面改質 (50分)

       (地独)東京都立産業技術研究センター 榎本 一郎

 超高分子量ポリエチレンは、分子量が極めて大きいため、汎用のポリエチレンと特性が大きく異なる。素材としては強度や耐衝撃性など優れた特性があるものの、疎水性のため他の素材との接着性や着色性に劣る。この素材の用途拡大を図るため、放射線グラフト重合及びプラズマ処理により表面改質を行った。視覚的な観点から、表面改質の効果を染色により評価した。FT-IRやXPSにより表面に固定化した成分を調べた。
 
2.新規な刺激応答性易剥離粘着剤の開発 (50分)

(地独)大阪府立産業技術総合研究所 繊維・高分子科 舘 秀樹

 刺激応答性易剥離性粘着剤は、光や熱等の外部刺激に応じて容易に剥離する粘着剤であり、製品の解体やリサイクル分野で大きく注目されている。本講演では、光および熱等の刺激に応答し、粘着力が低下する分解型等の易剥離粘着剤について紹介するとともに、架橋と光分解が可能な新しい架橋剤を用いた光剥離型粘着剤についても報告する。
 
3.現像時の高分子反応を利用した微細パターン形成法:反応現像画像形成(50分)

横浜国立大学大学院工学研究院 大山 俊幸

 ポリマー中に存在するカルボン酸類縁基(イミド基、エステル基など)と現像液中の求核剤との高分子反応を利用した微細パターン形成法である「反応現像画像形成」について紹介する。本手法では、ポリイミドやポリエステル、ポリカーボネートなどにもともと存在する官能基を利用しているため、市販品を含む広範なポリマーに簡便に感光性を付与し、微細パターンを形成することができる。本講演では、反応現像画像形成の機構・適用可能範囲・最新の研究成果などについて述べる。
 
4.300o照射幅ライン照射型電子線源「EBエンジン」及び各種紫外線光源の紹介(50分)

浜松ホトニクス(株) 電子線照射源部 木村 純、紫外線光源部 伊藤 真城

 弊社は、電子線の優れた表面加工技術を広く一般産業に浸透させるため、小型軽量の低エネルギー電子線照射源の開発に注力している。小型軽量ゆえに搬送ラインへの導入が容易で自社内での表面加工処理が可能になる。 本研究会では電子線照射幅 300oを有する、小型電子線照射源の特長を生かした応用分野などを紹介する。電子線照射源と併せ、紫外線光源(エキシマ光源、UV-LED、深紫外光源など)を紹介する。
第2部 技術交流会 17:30〜

 

 

 

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