第４３回 UV/EB研究会　（終了しました）

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主    催：

 (社)大阪ニュークリアサイエンス協会
平成２１年１１月２０日（金）　　１４:００～1６:３０
場    所： 住友クラブ
大阪市西区江戸堀1-13-10 　Tel:06-6443-1986 
 地下鉄四つ橋線肥後橋駅下車 ②出口よりすぐ【アクセス地図】
参加費： 第１部　講演会　6,000円
　協会会員及びＵＶ／ＥＢ会員 3,000円
　大学・公設研究機関 2,000円
　放射線科学研究会会員、学生、一般市民は無料
第２部　技術交流会　3,500円
　 参加を希望される方は、研究会の名前、住所、氏名、所属と交流会参加の有無を記入してまでメールでお申し込み下さい。

　

【講演の内容】　

第１部　講演会　　１４：００～
１．高強度レーザー誘起放射線（電子・イオン）の現状と工業分野への展開について

光産業創成大学院大学　光産業創成科　光加工・プロセス分野　沖原　伸一朗
　低重量・省スペースのレーザー装置で数MeV以上の粒子線を発生できる。近年では重イオンビームや単色電子ビーム発生等、用途開発向けの研究もなされている。世界的な研究や装置開発の進展を踏まえ、工業分野への実用化には至っていないが、次世代の技術として期待されている。講演では、レーザー誘起放射線研究の現状と、最新レーザー装置の開発状況、既存の工業分野への応用の可能性について概説する。　
　
２．超低エネルギー電子線照射源EB-ENGINE®の開発と応用

　　 浜松ホトニクス株式会社　電子管事業部　第5開発G　松井　信二郎
　従来産業に用いられてきた加速電圧数百kV～数MVの高エネルギー電子線はその飛程が数百μm～数mmあり、深さ方向への透過率が高いという反面、薄膜のごく表面などにおいてはエネルギー吸収効率が低く、且つ改質不要な深部にまで電子線が到達してしまう問題があった。　浜松ホトニクス（株）が開発したEB-ENGINE®は、加速電圧40～110 kVの超低エネルギー電子線を大気中に取出し、従来の高エネルギー電子線照射源よりもはるかに高効率で薄膜の表面のみへの電子線照射を可能にする。　講演では、主にこの超低エネルギー電子線照射の特長とその応用について紹介する。
　
３．イオン注入法を用いた高分子材料の処理

株式会社イオンテクノセンター　常務取締役　長町　信治
　高エネルギービームを用いた高分子材料の改質には主に電子線、Ｘ線が用いられてきた。過去にはイオンビームを用いて改質する試みもいくつかおこなわれたが、実用化されるには至っていない。改めてイオンビームと電子線、Ｘ線の違いを整理すると同時に、イオンビームの持つ可能性について議論する。
　
第２部　技術交流会　１７：００～