第73回 UV/EB研究会　

第１部　講演会　　13：30〜17:15

１．小型電子加速器の開発 (５０分)

　　　　　　　金属技研株式会社 技術本部 加速器応用部 吉田昌弘

　 金属技研では、ろう付けや拡散接合など異材接合技術をベースとし、研究機関や大学に向けた加速器・核融合関連機器に関するエンジニアリング事業を行っている。2016年からは、�褐�子発生技術研究所と技術提携し、マイクロトロンを用いた小型電子線照射装置の実用化開発を開始した。本講演では、金属技研のエンジニアリング事業および小型電子加速器開発について紹介する。

２．低エネルギー電子線による卵殻の殺菌技術と内部線量の評価(５０分)

東京都立産業技術研究センター 環境技術グループ　片岡憲昭

　低エネルギー電子線は加速電圧を調整することで任意の厚さを殺菌・処理することが可能であり、近年では食品の表面殺菌の手法として利用されつつある。日本では、食品の製造工程又は加工工程において、その製造工程又は加工工程の管理のために照射する場合であって、食品の吸収線量が0.10グレイ以下であれば照射は認められる。本講演では卵殻に電子線が十分照射され、可食部の線量が0.10Gy以下となるような照射条件や処理工程を紹介する。

3．次世代リソグラフィのための材料開発
― sub-10nm幅を目指す高分子ブロック共重合体リソグラフィ材料の開発 ― (５０分）

東京工業大学 物質理工学院材料系 早川晃鏡

　次世代半導体リソグラフィ技術開発を目指した高分子薄膜における微細加工研究の一環として、ブロック共重合体リソグラフィについて概要から先端研究までを述べる。本分野は高分子ブロック共重合体薄膜におけるナノドメインの配向・形態制御、また選択的分解が鍵を握っている。分子構造設計の指針から精密合成、薄膜における特異な自己組織化挙動を踏まえながら紹介する。

4．電子ビーム照射による金属ナノ粒子を含有した微細パターンの直接形成 (５０分）

量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研究所　山本洋揮

　EUVリソグラフィの実現により半導体産業における電離放射線の利用拡大が現実的なものになった。電離放射線へのシフトに伴って、革新的な材料・プロセスの研究・開発が求められている。本講演では、還元剤を使用することなく、金属イオンを含有したポリマー薄膜に電子ビーム照射後、加熱するだけで金属ナノ粒子を含有した微細パターンの直接形成、および放射線化学的な観点から反応機構を研究することで得られた知見を紹介する。

第２部　技術交流会　17：30〜19:00

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